Yazeka
Arama sonuçlarına göre oluşturuldu
Kimyasal buhar çöktürme (CVD) yöntemi, gaz halindeki öncüllerin reaksiyonu yoluyla bir alt tabaka üzerinde ince filmler, nano yapılar ve diğer malzemeleri üretmek için kullanılan kimyasal bir işlemdir 2.
CVD yönteminin temel aşamaları:
- Gaz Fazında Taşınım: Gaz halindeki öncüllerin substrat yüzeyine taşınması 2.
- Adsorpsiyon: Öncüler substrat yüzeyine adsorbe edilir 2.
- Yüzey Reaksiyonu: Alt tabaka üzerinde malzeme birikmesine yol açan kimyasal reaksiyonlar meydana gelir 2.
- Desorpsiyon: Reaksiyona girmeyen türler yüzeyden desorbe edilir 2.
CVD yönteminin türleri:
- Termal CVD: Reaksiyonları kolaylaştırmak için yüksek sıcaklıklara dayanır 2.
- Plazmayla Geliştirilmiş CVD (PECVD): Düşük sıcaklıklarda reaksiyon hızını artırmak için plazmayı kullanır 23.
- Düşük Basınçlı CVD (LPCVD): Düşük basınçta çalışarak, tek tip filmlere ve biriktirme oranlarının hassas kontrolüne yol açar 23.
5 kaynaktan alınan bilgiyle göre: