• Buradasın

    Kimyasal buhar birikimi ile MoS2 nasıl üretilir?

    Yazeka

    Arama sonuçlarına göre oluşturuldu

    Kimyasal buhar birikimi (CVD) yöntemiyle MoS2 üretimi için aşağıdaki adımlar izlenir:
    1. Sülfür ve MoO3 kaynak toz öncüllerinin hazırlanması 3.
    2. Farklı mesafelerde yerleştirme 3. CVD yöntemiyle, 4 ila 30 dakika arasında, farklı zaman aralıklarında, sülfür ve MoO3 kaynak toz öncüllerinin farklı mesafelerine bağlı olarak Si ve Safir alttaşlar üzerine dikey MoS2 yapıları büyütülür 3.
    3. Büyütme işlemi 3. İdeal reaksiyon bölgesi belirlendikten sonra, Ni köpük, grafen levha veya grafenleştirilmiş karbon nanotüp (G KNT) üzerine MoS2 yapıları büyütülür 3.
    4. Karakterizasyon 3. Elde edilen örnekler, FESEM, XRD, XPS, Raman spektroskopisi ve PL yöntemleriyle analiz edilir 3.
    Önemli noktalar:
    • Yüksek sıcaklık 5. MoS2 sentezi için yüksek sıcaklık (yaklaşık 1000°C) gereklidir 1.
    • Aşırı yüksek basınç 5. Üretim yöntemleri genellikle aşırı yüksek basınç gerektirir 5.
    • Bakteriyel üretim 5. Shewanella oneidensis türü bakteriler, oksijensiz ortamda solunum yaparak MoS2 nanoparçacıkları üretebilir 5.
    5 kaynaktan alınan bilgiyle göre:

      Yanıtı değerlendir

      5 kaynak

      1. tezara.org
        1
      2. tr.science44.com
        2
      3. tr.veteksemi.com
        3
      4. academia.edu
        4
      5. tr.wiki34.com
        5

    Konuyla ilgili materyaller

    Kimyasal buhar çöktürme kaplama yöntemi nedir?

    Kimyasal buhar çöktürme (CVD) kaplama yöntemi, kaplanmak istenen metalin buharlaşabilen bir bileşiğinin, vakum altındaki bir hazne içerisine taşıyıcı bir gaz aracılığıyla gönderilmesi ve önceden ısıtılan bir taban malzeme üzerinde kimyasal reaksiyon sonucu metalik veya bileşik olarak kaplanmasıdır. CVD kaplama yönteminin bazı avantajları: Kaplamanın taban malzemeye çok iyi yapışması. Kaplanacak malzemenin şeklinden bağımsız olarak her yerde homojen bir kaplama kalınlığının elde edilebilmesi. Hemen tüm geçiş elementlerinin, borürlerinin, karbürlerinin, nitrürlerinin, oksitlerinin, karbonitrürlerinin, oksikarbürlerinin kaplanabilmesi. Bazı dezavantajları: Yüksek buhar basıncının temini gerekliliği. Reaktiflerin tehlikeli ve pahalı maddeler olması. Taban malzemenin 800-1000 °C gibi yüksek sıcaklıklara ısıtılma zorunluluğu. CVD yöntemi, elektronik sanayiinde, makina imalat sektöründe kesici-delici-aşındırıcı yüzey üretiminde ve yüzeylere yüksek sıcaklık direnci sağlayan seramik esaslı kaplamalar üretiminde kullanılmaktadır.
    5 kaynak

    Buharlaştırma yöntemleri nelerdir?

    Buharlaştırma yöntemleri şunlardır: Buharlaştırma (Basit damıtma). Ayrımsal damıtma. Termal buharlaştırma (Thermal Evaporation). Elektron demeti buharlaştırma (Electron Beam Evaporation). Saçtırma (Sputtering). Ayrıca, açık kaynatma kabı, yatay tüp doğal dolaşımlı buharlaştırıcı, dikey tüp doğal dolaşımlı buharlaştırıcılar, uzun tüp dikey tip buharlaştırıcılar, düşen tip buharlaştırıcılar ve zorlanmış dolaşım tipi buharlaştırıcılar gibi farklı buharlaştırıcı türleri de bulunmaktadır.
    5 kaynak