• Buradasın

    Kimyasal buhar birikimi ile MoS2 nasıl üretilir?

    Yazeka

    Arama sonuçlarına göre oluşturuldu

    Kimyasal buhar birikimi (CVD) yöntemiyle MoS2 üretimi için aşağıdaki adımlar izlenir:
    1. Sülfür ve MoO3 kaynak toz öncüllerinin hazırlanması 3.
    2. Farklı mesafelerde yerleştirme 3. CVD yöntemiyle, 4 ila 30 dakika arasında, farklı zaman aralıklarında, sülfür ve MoO3 kaynak toz öncüllerinin farklı mesafelerine bağlı olarak Si ve Safir alttaşlar üzerine dikey MoS2 yapıları büyütülür 3.
    3. Büyütme işlemi 3. İdeal reaksiyon bölgesi belirlendikten sonra, Ni köpük, grafen levha veya grafenleştirilmiş karbon nanotüp (G KNT) üzerine MoS2 yapıları büyütülür 3.
    4. Karakterizasyon 3. Elde edilen örnekler, FESEM, XRD, XPS, Raman spektroskopisi ve PL yöntemleriyle analiz edilir 3.
    Önemli noktalar:
    • Yüksek sıcaklık 5. MoS2 sentezi için yüksek sıcaklık (yaklaşık 1000°C) gereklidir 1.
    • Aşırı yüksek basınç 5. Üretim yöntemleri genellikle aşırı yüksek basınç gerektirir 5.
    • Bakteriyel üretim 5. Shewanella oneidensis türü bakteriler, oksijensiz ortamda solunum yaparak MoS2 nanoparçacıkları üretebilir 5.
    5 kaynaktan alınan bilgiyle göre:

      Yanıtı değerlendir

      5 kaynak

      1. tezara.org
        1
      2. tr.science44.com
        2
      3. tr.veteksemi.com
        3
      4. academia.edu
        4
      5. tr.wiki34.com
        5

    Konuyla ilgili materyaller

    Buharlaştırma yöntemleri nelerdir?

    Buharlaştırma yöntemleri çeşitli alanlarda kullanılan temel işlemlerdir ve farklı şekillerde uygulanabilir. İşte bazı buharlaştırma yöntemleri: 1. Damıtma: Sıvı bileşenleri kaynama noktalarına göre ayırmak için kullanılır. 2. Kristalizasyon: Çözücünün bir çözeltiden buharlaştırılmasıyla katı kristalli malzemeler üretilir. 3. Konsantrasyon: Solventi bir çözeltiden uzaklaştırarak çözünen maddenin konsantrasyonunu artırır. 4. Döner Buharlaştırma: Laboratuvar ortamında kimyasal karışımlardan solventleri vakum altında uzaklaştırmak için kullanılır. 5. Püskürterek Kurutma: Sıvı çözeltilerden veya süspansiyonlardan toz üretiminde kullanılır. 6. İnce Film Buharlaşması: Bir sıvının ısıtılmış bir yüzeye yayılması ve buharlaşmanın teşvik edilmesiyle istenen ürünün ince bir filminin geride bırakılması yöntemidir.
    5 kaynak

    Kimyasal buhar çöktürme kaplama yöntemi nedir?

    Kimyasal buhar çöktürme (CVD) kaplama yöntemi, gaz fazındaki kimyasal maddelerin bir substrat yüzeyine taşınarak, bu yüzeyde kimyasal reaksiyonlar sonucu bir film tabakasının oluşması esasına dayanan bir ileri teknoloji kaplama yöntemidir. Süreç şu adımları içerir: 1. Substrat temizliği: Kaplamanın kalitesini doğrudan etkileyen kritik bir aşamadır, yüzey yabancı maddelerden arındırılmalıdır. 2. Gaz akışının kontrolü: Kaplamanın kalınlığı ve homojenliği üzerinde büyük bir etkiye sahiptir, gazlar belirli oranlarda ve hızda reaksiyon odasına verilir. 3. Reaksiyon odasının ısıtılması: Kimyasal reaksiyonlar belirli bir sıcaklık aralığında gerçekleşir. 4. Kaplama oluşumu: Gaz fazındaki kimyasal maddeler, substrat yüzeyinde kimyasal reaksiyona girerek katı bir film tabakası oluşturur. CVD kaplamalar, yüksek saflık, düzgün kaplama kalitesi, geniş uygulama alanı ve yüksek kaplama hızı gibi avantajlar sunar.
    5 kaynak