Kimyasal buhar çöktürme (CVD) kaplama yöntemi, gaz fazındaki kimyasal maddelerin bir substrat yüzeyine taşınarak, bu yüzeyde kimyasal reaksiyonlar sonucu bir film tabakasının oluşması esasına dayanan bir ileri teknoloji kaplama yöntemidir. Süreç şu adımları içerir: 1. Substrat temizliği: Kaplamanın kalitesini doğrudan etkileyen kritik bir aşamadır, yüzey yabancı maddelerden arındırılmalıdır. 2. Gaz akışının kontrolü: Kaplamanın kalınlığı ve homojenliği üzerinde büyük bir etkiye sahiptir, gazlar belirli oranlarda ve hızda reaksiyon odasına verilir. 3. Reaksiyon odasının ısıtılması: Kimyasal reaksiyonlar belirli bir sıcaklık aralığında gerçekleşir. 4. Kaplama oluşumu: Gaz fazındaki kimyasal maddeler, substrat yüzeyinde kimyasal reaksiyona girerek katı bir film tabakası oluşturur. CVD kaplamalar, yüksek saflık, düzgün kaplama kalitesi, geniş uygulama alanı ve yüksek kaplama hızı gibi avantajlar sunar.