Yazeka
Arama sonuçlarına göre oluşturuldu
EB-PVD (Elektron Demetiyle Fiziksel Buhar Biriktirme) ve PVD (Fiziksel Buhar Biriktirme) arasındaki temel farklar şunlardır:
- İşlem Mekanizması: EB-PVD, anottaki hedef malzemenin tungsten bir flaman tarafından elektron bombardımanına tutulmasıyla gerçekleştirilir 23. Bu, atomların gaz fazına geçmesine ve ardından ince bir film oluşturmak üzere substrat üzerinde yoğunlaşmasına neden olur 2. PVD ise, katı veya sıvı bir malzemenin buharlaştırılması ve bu buharın substrat üzerinde yoğunlaştırılmasıyla yapılır 1.
- Sıcaklık: EB-PVD, nispeten düşük substrat sıcaklıklarında yüksek biriktirme oranları sunar (0,1 ila 100 µm/dak) 3. PVD ise daha düşük sıcaklıklarda çalışır ve bu da onu sıcaklık açısından hassas substratlar için uygun hale getirir 1.
- Byproductlar: EB-PVD işlemi, korozyona neden olmayan temiz bir süreç olarak kabul edilir 13. PVD ise genellikle korozif gazlar üretir ve bu da ek güvenlik önlemleri gerektirir 1.
- Uygulama Alanları: EB-PVD, aşınma direnci ve termal bariyer kaplamaları gibi yüksek sıcaklık uygulamaları için kaplamalar üretmek için kullanılır 4. PVD ise dekoratif kaplamalar, anti-korozyon katmanları ve güneş panelleri üretiminde yaygındır 1.
5 kaynaktan alınan bilgiyle göre: