EB-PVD (Elektron Işını Fiziksel Buhar Biriktirme) teknolojisi, malzemelerin ince filmlerini alt tabaka üzerine yatırmak için kullanılan bir kaplama yöntemidir. Çalışma prensibi: 1. Elektron ışınının oluşturulması: Yüksek enerjili bir elektron tabancası, elektron ışını üretir. 2. Hedef malzemenin buharlaştırılması: Elektron ışını, vakum odasında bulunan hedef malzemeye yönlendirilir ve bu malzeme hızla ısınarak buharlaşır. 3. Vapor bulutunun oluşumu: Buharlaşan malzeme, alt tabakanın yüzeyinde yoğunlaşarak bir buhar bulutu oluşturur. 4. Depozisyon: Alt tabaka, buhar bulutuna maruz bırakılarak malzemenin alt tabaka üzerinde çökelmesi sağlanır. Avantajları: Yüksek biriktirme hızı, mükemmel yapışma, geniş malzeme yelpazesi ve homojen kaplamalar elde etme imkanı sunar. Kullanım alanları: Havacılık, elektronik, tıp cihazları gibi çeşitli endüstrilerde termal bariyer kaplamaları, yarı iletken filmler ve dekoratif kaplamalar için kullanılır.