EB-PVD (Elektron Demetiyle Fiziksel Buhar Biriktirme) ve PVD (Fiziksel Buhar Biriktirme) arasındaki temel farklar şunlardır: Çalışma Prensibi: EB-PVD, yüksek vakum altında tungsten bir flaman ile elektron bombardımanına tutulan hedef malzemenin atomlarının gaz fazına geçmesi ve bu atomların vakum çemberi içinde her noktaya yapışarak ince bir film oluşturması prensibine dayanır. Sıcaklık: EB-PVD, nispeten düşük alt tabaka sıcaklıklarında yüksek birikim hızı (0,1 ila 100 μm/dakika) sunar. Kaplama Hızı: EB-PVD, yüksek malzeme kullanım verimliliği ile bilinir. Kullanım Alanı: EB-PVD, özellikle yüksek birikme hızı ve kimyasal bileşimin hassas kontrolü gerektiren uygulamalarda tercih edilir. Sonuç olarak, EB-PVD yüksek birikim hızı ve hassasiyet sunarken, PVD daha geniş bir kullanım alanına ve çevre dostu bir yapıya sahiptir.