Fotorezist, fotolitografi ve benzeri endüstriyel işlemlerde kullanılan, ışığa duyarlı bir malzemedir. İki ana türü vardır: 1. Pozitif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında kimyasal yapısı değişir ve fotorezist geliştiricide çözünür hale gelir. 2. Negatif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında polimerleşir ve daha çözünür hale gelir. Fotorezist, elektronik baskılı devre ve tümdevre üretiminde yüzeye serilerek kullanılır.