• Buradasın

    Fotoresist çeşitleri nelerdir?

    Yazeka

    Arama sonuçlarına göre oluşturuldu

    Fotoresistler iki ana kategoriye ayrılır: pozitif ve negatif 12.
    Pozitif fotoresistler, ışığa maruz kaldıklarında çözünür hale gelir ve bu sayede ışınlanmamış alanlar kalır, substrat üzerinde pozitif bir maske oluşur 12. Örnekler arasında fenolik veya krezol formaldehit reçineleri bulunur 1.
    Negatif fotoresistler ise ışığa maruz kaldıklarında daha güçlü hale gelir (polimerize veya çapraz bağlanır) ve ışınlanmamış alanlar geliştirici çözücü tarafından uzaklaştırılır, sonuç olarak substrat üzerinde negatif bir maske oluşur 12. Örnekler arasında polivinil alkol ve kromik asit tuzları yer alır 1.
    5 kaynaktan alınan bilgiyle göre:

      Yanıtı değerlendir

      5 kaynak

      1. bilsenbesergil.blogspot.com
        1
      2. en.wikipedia.org
        2
      3. adobe.com
        3
      4. tr.yic-electronics.com
        4
      5. tr.ariat-tech.com
        5

    Konuyla ilgili materyaller

    Fotorezist nedir?

    Fotorezist, fotolitografi ve benzeri endüstriyel işlemlerde kullanılan, ışığa duyarlı bir malzemedir. İki ana türü vardır: 1. Pozitif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında kimyasal yapısı değişir ve fotorezist geliştiricide çözünür hale gelir. 2. Negatif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında polimerleşir ve daha çözünür hale gelir. Fotorezist, elektronik baskılı devre ve tümdevre üretiminde yüzeye serilerek kullanılır.
    5 kaynak

    Fotolitografi ve fotorezist nasıl çalışır?

    Fotolitografi ve fotorezist yarı iletken üretiminde önemli adımlardır. Fotolitografi süreci, bir yüzey üzerinde desenli bir kaplama oluşturmak için kullanılır. Bu süreç genellikle şu adımları içerir: 1. Tasarım: Yüzeyde oluşturulması gereken desen veya görüntü özel yazılımlarla tasarlanır. 2. Maske Oluşturma: Tasarımı içeren bir maske oluşturulur. 3. Gofretin Hazırlanması: Gofret temizlenir ve üzerine fotorezist adı verilen ışığa duyarlı bir malzeme uygulanır. 4. Pozlama: Maske gofretin üzerine yerleştirilir ve UV ışığına maruz bırakılır, bu da deseni gofrete aktarır. 5. Geliştirme: Maruz kaldıktan sonra gofret, fotorezistin geliştirildiği kimyasal bir çözeltiye daldırılır. 6. Aşındırma: Daha sonra gofret, fotorezist katmanı tarafından korunmayan malzemenin kaldırıldığı bir aşındırma işlemine tabi tutulur. Fotorezist ise iki ana türde olabilir: - Pozitif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında geliştirici solüsyonda çözünür hale gelir ve maruz kalan alanların yıkanarak uzaklaştırılmasına olanak tanır. - Negatif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldıktan sonra geliştirici içinde çözünmez hale gelir ve bu da maruz kalmayan alanların kaldırılmasına neden olur.
    5 kaynak