Yazeka
Arama sonuçlarına göre oluşturuldu
Fotolitografi süreci, bir yüzey üzerinde desenli bir kaplama oluşturmak için kullanılır 2. Bu süreç genellikle şu adımları içerir:
- Tasarım: Yüzeyde oluşturulması gereken desen veya görüntü özel yazılımlarla tasarlanır 3.
- Maske Oluşturma: Tasarımı içeren bir maske oluşturulur 3.
- Gofretin Hazırlanması: Gofret temizlenir ve üzerine fotorezist adı verilen ışığa duyarlı bir malzeme uygulanır 35.
- Pozlama: Maske gofretin üzerine yerleştirilir ve UV ışığına maruz bırakılır, bu da deseni gofrete aktarır 34.
- Geliştirme: Maruz kaldıktan sonra gofret, fotorezistin geliştirildiği kimyasal bir çözeltiye daldırılır 34. Bu, maskenin oluşturduğu desen veya görüntüyü geride bırakır 3.
- Aşındırma: Daha sonra gofret, fotorezist katmanı tarafından korunmayan malzemenin kaldırıldığı bir aşındırma işlemine tabi tutulur 3.
Fotorezist ise iki ana türde olabilir:
- Pozitif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldığında geliştirici solüsyonda çözünür hale gelir ve maruz kalan alanların yıkanarak uzaklaştırılmasına olanak tanır 4.
- Negatif Fotorezist: UV ışığına maruz kaldıktan sonra geliştirici içinde çözünmez hale gelir ve bu da maruz kalmayan alanların kaldırılmasına neden olur 4.
5 kaynaktan alınan bilgiyle göre: