Yazeka
Arama sonuçlarına göre oluşturuldu
Fotolitografi, bir maske üzerindeki modelin çoğunlukla silisyum pul üzerine aktarılması işlemidir 13. Bu süreçte, fotorezist olarak adlandırılan ışığa duyarlı bir malzeme ile kaplanan numune yüzeyi, ışığa maruz bırakılır ve uygun çözelti ile maruz kalması sonucu model ortaya çıkar 13.
Fotolitografinin çalışma prensibi:
- Coat (Kaplama) 3. Alt taş (substrate) yüzeyine ışığa duyarlı fotorezist madde uygulanır 3.
- Expose (Işıklandırma) 3. Kaplanan fotorezist madde, yakın ultraviyole, derin ultraviyole veya X-ray ışık kaynağı kullanılarak istenilen desenden geçirilerek ışığa maruz bırakılır 3.
- Develop (Geliştirme) 3. Işığın maruz kaldığı fotorezist madde, kimyasal çözücülerden geçirilir 3. Fotorezist türüne göre (pozitif ya da negatif) kimyasal çözünme olayının davranışı değişir 3.
5 kaynaktan alınan bilgiyle göre: